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2024-10-14

导电玻璃刻蚀机具有以下特点和优势：加工精度高定位精准：配备先进的定位系统，如CCD相机自动定位等，能够精确地确定刻蚀位置，定位精度可达到微米级别，确保刻蚀图案的准确性和一致性。例如在制作触摸屏的导电线路时，高精度的刻蚀可以保证触摸感应的灵敏性和准确性。线宽控制精细：可以实现超细线宽的刻蚀，最小刻蚀线宽能够达到10微米以下甚至更精细，对于需要高精度导电线路或微纳结构的应用非常关键。比如在光伏电池的电极制作中，精细的线宽可以提高电池的光电转换效率。加工效率高：激光刻蚀速度快：采用...

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顶针加热台产品特点产品特点：1.硬质阳极氧化铝耐腐蚀加热面板。2.7寸全彩触摸屏，高级PLC控制。实现在设定时间内自动升降，可以定时取片。3.可以任意设置顶针高度，实现无接触式烤胶。4.配有上盖内置微晶玻璃，可以保温防尘。规格型号：JW-220KJ技术参数：1.加热面板尺寸：220-220mm2.电源输入：220V1000W3.控温范围：室温--300℃；温度分辨率：0.1℃4.温度分辨率：0.1℃5.温度均匀性：±1%℃6.可储存6组程序配方，每组配方30个加热阶段。7.电动顶... 查看详情 2023-04-11
加热匀胶机产品特点产品特点：参数参数n结构紧凑，适合直接放于手套箱内操作；n7寸全彩触摸屏，高级PLC控制，设置一键启动按钮,操作方便；n可在加热的同时，进行单步和多步匀胶操作；n工业级马达，旋转平稳,运行稳定；n溶剂PC透明盖；规格型号：JW-A6技术参数：外形尺寸：270mm(W)360mm（D）260mm（H）n重量：12KGn兼容基片尺寸：可载基片最小（φ10mm最大φ35mm）n速度可调范围：100-5000RPM/SN减速度可调范围：100-3000rpm/Sn转速分辨率：1RPM... 查看详情 2023-04-11
晶圆烤胶机外部结构一般由烤箱和控制系统两部分组成晶圆烤胶机是一种专门用于半导体晶圆制作中的设备，其主要作用是使晶圆表面的胶水均匀地涂布在晶圆表面，从而确保晶圆表面的平整度和工艺精度。工作原理是使晶圆在高温下经过一定的处理步骤，例如预热、涂胶、烘干等，以达到理想的制造效果。晶圆烤胶机的外部结构一般由烤箱和控制系统两部分组成。烤箱通常采用不锈钢材料制成，具有良好的耐热性和稳定性，能够承受高温高压的环境条件。烤箱内部设计为环保、无尘、无菌等特性，以满足半导体晶圆生产的高要求。此外，还配备有精准的温度、时间和压力控制系统，以确保每... 查看详情 2023-04-07
流动气氛加热台技术参数技术参数：1、面板材质：309S不锈钢（耐高温）2、电压：220V3、产品尺寸：230x190x185(mm)4、加热区域：160x160(mm)5、有效恒温区域：100X100(mm)6、控温范围：室温-600°C7、控温精度：士1%°C（无气流下）8、温度分辦率：0.1°C9、气氛：空气或惰性气体10、功率：600W.(10A)11、控温方式：30个程序度控温产品特点：1.本品可用于流动气氛高温加热，即在加热的过程中，为受热样品提供一个可调控的流动气体的保护氛围。2.基于... 查看详情 2023-03-23
镀膜机技术参数技术参数：1.真空室：∅220mm*H400mm；2.可镀最大工件尺寸：60*60mm,配抽拉式样品台，样品可旋转；另配备铜基板样品台；3.真空系统：机械泵+分子泵抽气系统；极限真空度：优于5*10-5Pa；4.抽气时间：大气压~8*10-4Pa小于30min；5.蒸发：电阻式蒸发电极（1对），可达到1800℃（只要熔点低于1600度的都可以蒸镀）功率：2KW；6.开启方式：正面开门结构，便于换丝及装料；7.水冷循环系统0.5P；注：可根据用户需要进行配置调整！设... 查看详情 2023-03-23
匀胶机旋涂仪产品特点产品特点：1.结构紧凑，适合直接放于手套箱内操作；2.7寸全彩触摸屏，高级PLC控制，设置一键启动按钮,操作方便；3.可单步和多步匀胶操作；4.工业级马达，旋转平稳,运行稳定；5.溶剂PC透明盖；6.真空泵与匀胶机同步工作,匀胶机旋转,真空泵就启动,匀胶机停止,真空泵就停止；7.设置有开机密码功能，提高设备操作安全性；8.左上面配有载物槽，（φ16深13）放药水瓶方便。技术参数：1..外形尺寸：335mm(D)x228mm(W)x215mm(H)2.标配三种真空吸盘（φ10m... 查看详情 2023-03-23

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